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| 評価されるインパルス電圧: | 200KV | 構造: | モバイル構成 |
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| インパルスエネルギー: | 15kJ | 標準波形: | 1.2/50μs |
| テストオブジェクト: | 変圧器、開閉装置、ケーブル、ブッシング、絶縁体 | 主要コンポーネント: | インパルス発生器、充電ユニット、波形整形ネットワーク、分圧器および制御システム |
| ハイライト: | 変圧器用雷インパルス発生器,高電圧インパルス試験システム,切断波のインパルステスト |
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マルチ波形雷インパルス発生器は、異なるインパルス電圧波形を必要とする高電圧試験用途向けに設計されています。選択された構成に応じて、標準的な雷インパルス全波、切り込み波、および開閉インパルス波形を生成できます。
この柔軟性により、複数の種類の高電圧機器を試験する、または異なるインパルス条件を必要とする試験プログラムを実施する研究所に適しています。
システムは、インパルス発生器、充電ユニット、波形整形抵抗器、切り込み装置、開閉インパルスコンポーネント、電圧測定分圧器、デジタル波形レコーダー、および制御システムで構成できます。
利用可能な波形、出力定格、および性能は、必要な試験プログラムに対して確認する必要があります。
絶縁耐力評価のために、一般的に1.2/50μsの指定された雷インパルス波形を生成します。
互換性のある切り込み装置を使用して、必要な切り込みインパルス波形を生成します。切り込み時間およびその他のパラメータは、試験仕様およびシステム設計に従って選択する必要があります。
より長時間のインパルス電圧波形を必要とする用途向けに、専用の開閉インパルス構成を提供できます。
構成された測定システムは、インパルス波形をキャプチャし、関連するピーク電圧およびタイミングパラメータの解析をサポートします。
選択されたソフトウェアおよび自動化機能に応じて、適切な制御システムは再現可能な試験設定とデータ記録をサポートできます。
より高い試験柔軟性: 適切に構成された1つのシステムで、複数の試験要件をサポートできます。
構成の不確実性の低減: 機器納入後にではなく、システム設計中に波形要件が考慮されます。
統合測定: 完全なソリューションの一部として、互換性のある測定および記録機器を指定できます。
用途固有のエンジニアリング: 試験対象機器、研究所のレイアウト、および必要な規格に従ってシステムを構成できます。
Q1: 全波インパルスと切り込み波インパルスの違いは何ですか?
全波インパルスは、意図的な切り込みなしに指定されたインパルス波形に従います。切り込み波インパルスは、適切な切り込み装置を使用して定義された点で中断されます。それぞれは、適用される試験手順に従って使用されます。
Q2: 同じシステムで開閉インパルスを生成できますか?
適切なシステムは、必要な回路、波形整形コンポーネント、および測定構成が含まれている場合に開閉インパルスをサポートできます。
Q3: 3つの波形すべてが標準で含まれていますか?
必ずしもそうではありません。利用可能な波形は、選択されたモデルとプロジェクトの範囲によって異なります。見積もりを依頼する前に、必要な波形を指定してください。
Q4: システムは異なる種類の電気機器を試験できますか?
はい、電圧定格、エネルギー、波形特性、接続、および測定配置が各試験対象に適している場合。
Q5: 正しい構成を確認するにはどうすればよいですか?
必要な波形、電圧レベル、機器の種類、適用される規格、および試験仕様に記載されている特定の波形許容誤差を提供してください。
研究所で必要なインパルス波形をお知らせください。当社のエンジニアリングチームは、必要な回路構成、測定システム、およびアクセサリをレビューして、適切な技術提案を作成できます。
コンタクトパーソン: Miss. Kelly Pan
電話番号: +8618186672186